BAB I
PENDAHULUAN
1.1 Latar Belakang
Korosi
yang terjadi di berbagai
lingkungan menyebabkan kerusakan yang memakan biaya cukup besar terjadi setiap tahun. Untuk menanggulangi bahaya
korosi, perlu dicari cara-cara untuk melindungi logam yang mudah terkorosi. Salah satu cara perlindungan yang patut di lakukan adalah memberikan suatu
lapisan logam tertentu sebagai lapis pelindung. Ada bermacam-macam cara untuk
memberikan logam pelapis pada logam yang akan dilindungi. Salah satu
diantaranya adalah proses lapis listrik (electroplating).
Elektroplating adalah proses yang
menggunakan arus listrik untuk mengurangi kation logam terlarut sehingga
membentuk lapisan logam yang koheren pada elektroda. Istilah ini juga digunakan
untuk oksidasi listrik anion ke substrat padat, seperti dalam pembentukan perak
klorida pada kawat perak untuk membuat elektroda perak/perak klorida.
Elektroplating terutama digunakan untuk mengubah sifat permukaan suatu
benda (misalnya abrasi dan ketahanan aus, perlindungan korosi,
pelumasan, kualitas estetika), tetapi juga dapat digunakan untuk
membangun ketebalan pada bagian berukuran atau membentuk objek dengan electroforming.
Percobaan ini dilakukan untuk melihat cara elektroplating
dan pengaruh konsentrasi larutan terhadap elektroplating yang dilakukan.
1.2 Tujuan Percobaan
Tujuan percobaan ini adalah untuk melihat laju pelapisan
Cu terhadap Fe dan pengaruhnya terhadap perbedaan konsentrasi elektrolit dan
arus listrik.
BAB
II
TINJAUAN KEPUSTAKAAN
Elektrokimia
adalah studi mengenai hubungan yang terjadi antara reaksi kimia dan arus
listrik. Reaksi elektrolisis juga masuk ke dalam yang satu ini, dimana
perubahan yang ada dipaksa terjadi oleh aliran listrik yang melalui sistem
kimia. Prinsip dari
metode elektrosintesis didasarkan pada penerapan teori-teori elektrokimia. Baik
teknik elektrosintesis maupun metode sintesis secara konvensional, mempunyai
variabel-variabel yang sama seperti suhu, pelarut, pH, konsentrasi reaktan,
metode pencampuran dan waktu. Akan tetapi perbedaannya, jika dielektrosintesis
mempunyai variabel tambahan yakni variabel listrik dan fisik seperti elektroda,
jenis elektrolit, lapisan listrik ganda, materi/jenis elektroda, jenis sel
elektrolisis yang digunakan, media elektrolisis dan derajat pengadukan
(Suminar, 2007).
Elektroplating merupakan
teknik pelapisan secara elektrodeposisi, yaitu proses pengendapan pelapis logam
secara elektrokimia. Cara pelapisan ini memerlukan arus listrik searah (DC).
Bila listrik mengalir antara anoda dan katoda, didalam larutan konduktor/larutan
elektrolit, maka akan terjadi reaksi kimia pada permukaan logam tersebut. Pada
sistem demikian, bila diberi tegangan atau beda potensial, ion-ion bergerak
menuju elektroda. Kation bergerak menuju katoda dan anion menuju anoda.
Masing-masing mempunyai laju yang khas (konduktivitas ion spesifik).
Konduktivitas total larutan tertentu merupakan penjumlahan dan konduktivitas
ion individu segenap ion yang dikandungnya (Sukardjo, 2003).
Teknologi pengerjaan
logam, proses electroplating
dikategorikan sebagai proses pengerjaan akhir (metal finishing). Secara sederhana, elektroplating dapat diartikan
sebagai proses pelapisan logam, dengan menggunakan bantuan arus listrik
dan senyawa kimia tertentu guna memindahkan partikel logam pelapis ke material yang
hendak dilapis. Proses elektroplating mengubah sifat fisik, mekanik, dan sifat
teknologi suatu material. Salah satu contoh perubahan fisik ketika material
dilapis dengan nikel adalah bertambahnya daya tahan material tersebut terhadap
korosi, serta bertambahnya kapasitas konduktifitasnya. Adapun dalam sifat
mekanik, terjadi perubahan kekuatan tarik maupun tekan dari suatu material
sesudah mengalami pelapisan dibandingkan sebelumnya. Karena itu, tujuan
pelapisan logam tidak luput dari tiga hal, yaitu untuk meningkatkan sifat
teknis/mekanis dari suatu logam, yang kedua melindungi logam dari korosi, dan
ketiga memperindah tampilan (Prabowo, 2003).
Efisiensi
plating pada umumnya dinyatakan sebagai efisiensi arus anoda maupun katoda.
Efisiensi katoda yaitu arus yang digunakan untuk pengendapan logam pada katoda
dibandingkan dengan total arus masuk. Arus yang tidak dipakai untuk pengendapan
digunakan untuk penguraian air membentuk gas hidrogen, hilang menjadi panas
atau pengendapan logam-logam lain sebagai impuritas yang tak diinginkan.
Efisiensi anoda yaitu perbandingan antara jumlah logam yang terlarut dalam
elektrolit dibanding dengan jumlah teoritis yang dapat larut menurut Hukum
Faraday. Kondisi plating yang baik bila diperoleh efisiensi katoda sama dengan efisiensi
anoda, sehingga konsentrasi larutan bila menggunakan anoda aktif akan selalu
tetap (Suminar, 2008).
Beberapa hal yang mempengaruhi lapisan pada
elektroplating yaitu
a.
Logam Dasar
Digunakan untuk pembuatan elektroda
(katoda) atau benda kerja harus berbentuk batang yang mempunyai penampang
melintang bulat atau persegi (berbentuk pelat). Logam dasar harus bebas dari
lemak dan kotoran-kotoran oksida yang dapat mempengaruhi pelekatan lapisan dan
dapat menimbulkan korosi.
b.
Rapat Arus
Pada proses ini jumlah logam yang
terdeposisi pada katoda atau yang lenyap dari anoda. Rapat arus yang timbul
dapat mempercepat terjadinya pengendapan namun hasilnya kasar.di samping itu
rapat arus yang tinggi dapat menyebabkan pelarutan kembali pada lapisan yang
terbentuk. Rapat arus yang rendah menyebabkan pelepaan ion lambat sehingga
membutuhkan waktu yang relatif lama.
c.
Konsentrasi Larutan
Elektrolit
Pada larutan yang konsentrasinya rendah,
proses pelapisan berlangsung lama dan kemungkinan tidak terjadilapisan.
Sebaliknya pada larutan yang konsentrasinya tinggi, akan menghasilkan lapisan
yang melekat kuat tetapi kemungkinan lapisan yang terjadi
kasar.
d.
pH Larutan
Larutan yang bersifat netral atau mendekati
netral mudah menjadi larutan yang bersifat basa dipermukaan katoda, sehingga
lapisan yang terbentuk akan tercampur dengan lapisan garam basa atau
hidroksida. pH yang terlalu rendah memudahkan terjadinya reaksi
pembentukan gas hidrogen dan melarutnya kembali lapisan yang terjadi. Nilai
potensial (E) untuk elektroda hidrogen bergantung pada konsentrasi ion
hidrogennya. Misalnya di buat konsentrasi sel hidrogen yang satu dalam keadaan
baku dan sel hidrogen yang lain tidak dalam keadaan baku (Darmaji, 2005).
BAB III
METODOLOGI
PERCOBAAN
3.1
Alat dan Bahan
Alat
yang digunakan adalah cawan elektroplating, stopwatch,
sumber arus variasi AC,
ampelas, multimeter, dan timbangan
analitis.
Bahan yang digunakan adalah kristal CuSO4, logam
Cu, logam Fe dan
aquades.
3.2
Skema
Kerja
Pertama
dibuat larutan CuSO4 dengan konsentrasi 0,05 M dan 0,1 M. Kemudian
dibersihkan logam Cu dan Fe dengan ampelas, ditimbang berat logam Cu dan Fe,
dirangkai sel dan dimasukan 50 ml larutan CuSO4 0,1 M ke dalam cawan elektroplating, dialirkan
arus listrik sebanyak 5 A dengan tegangan 10 volt. Kemudian dimatikan arus
listrik, dicuci logam Fe dengan air, dikeringkan
serta ditimbang.
Percobaan diulangi untuk larutan CuSO4 0,05 M.
BAB IV
DATA
HASIL PENGAMATAN DAN PEMBAHASAN
4.1 Data Hasil Pengamatan
Tabel
4.1 Data Hasil Pengamatan
No
|
Logam
|
Berat Awal (gram)
|
Waktu (detik)
|
Arus (Ampere)
|
Tegangan
(Volt)
|
Konsentrasi Elektrolit (M)
|
Berat Akhir (gram)
|
1
|
Cu
|
22,252
|
600
|
5
|
10
|
0,1
|
22,232
|
Fe
|
21,500
|
21,571
|
|||||
2
|
Cu
|
22,250
|
600
|
5
|
10
|
0,05
|
22,230
|
Fe
|
21,465
|
21,487
|
4.2 Pembahasan
Sel elektrokimia
merupakan suatu sel atau tempat terjadinya aliran elektron yang disebabkan oleh
perubahan energi kimia menjadi energi listrik atau sebaliknya. Sel ini dikelompokkan
menjadi dua macam yaitu:
1. Sel
Volta melibatkan perubahan energi kimia menjadi energi listrik
2. Sel
Elektrolisis melibatkan perubahan energi listrik menjadi energi kimia.
Elektroplating
merupakan salah satu cara yang biasa digunakan dalam proses pelapisan suatu
logam dengan logam lain yang lebih tahan terhadap korosi. Selain itu, teknik
ini juga dimanfaatkan untuk memperindah suatu logam. Elektroplating dibuat dengan cara mengalirkan arus listrik melalui
larutan antara logam atau material lain yang konduktif. Dua buah plat logam
merupakan anoda dan katoda dihubungkan pada kutub positif dan negatif terminal
sumber arus searah (DC). Logam yang terhubung dengan kutub positif disebut
anoda dan yang terhubung dengan kutub negatif disebut katoda. Ketika sumber
tegangan digunakan pada elektrolit, maka kutub positif mengeluarkan ion
bergerak dalam larutan menuju katoda dan disebut sebagai kation. Kutub negatif
juga mengeluarkan ion, bergerak menuju anoda dan disebut sebagai anion.
Larutannya disebut elektrolit.
Percobaan ini
menggunakan logam besi (Fe) dan tembaga (Cu) pada proses elekroplating. Cawan
elektroplating berisi larutan elektrolit berupa CuSO4. Larutan elektrolit
yang digunakan memiliki konsentrasi yang berbeda, yaitu konsentrasi 0,1 M dan
0,05 M sehingga dapat dibandingkan pengaruh konsentrasi terhadap pelapisan
logam. Logam yang diletakkan pada katoda dan anoda dibersihkan terlebih dahulu,
hal ini untuk menghilangkan pengotor-pengotor yang terdapat pada logam serta
menghilangkan karatan pada logam. Setelah pembersihan logam dilakukan
penimbangan untuk mengetahui massa logam sebelum proses elektroplating dan
setelahnya. Kemudian logam Fe diletakkan pada anoda dan Cu diletakkan pada katoda.
Menurut teori, logam Cu
akan mengalami reduksi dan Fe mengalami oksidasi. Pada sel elektrolisis, katoda
akan mengalami reduksi sedangkan anoda mengalami oksidasi. Logam yang telah
diletakkan pada masing-masing elektroda
dimasukkan ke dalam cawan elektroplating yang didalamnya berisi larutan CuSO4
0,1 M kemudian dialirkan arus listrik. Votase yang digunakan pada percobaan ini
adalah 10 volt. Arus
yang
digunakan adalah 5 Ampere. Setelah 10 menit, logam Fe mengalami korosi dengan
pertambahan massa dari 21,500 gram
menjadi 21,571 gram sedangkan logam Cu mengalami penurunan massa
dari 22,252 gram menjadi 22,232 gram
yang
artinya mengalami reduksi
pada konsentrasi 0,1 M. Pada konsentrasi 0,05 M logam Fe juga
mengalami penambahan massa dari
21,465 gram menjadi 21,487 gram dan
logam Cu mengalami penurunan massa dari
22,250 gram menjadi 22,230 gram. Massa elektroplating
yang diperoleh
CuSO4 yaitu 2,75
x 10-7 gram.
Faktor-faktor yang mempengaruhi proses elektroplating
adalah:
1.
Logam Dasar
Logam dasar digunakan
untuk pembuatan elektroda (katoda) atau benda kerja harus berbentuk batang yang
mempunyai penampang melintang bulat atau persegi (berbentuk pelat). Logam dasar
harus bebas dari lemak dan kotoran-kotoran oksida yang dapat mempengaruhi
pelekatan lapisan dan dapat menimbulkan korosi. Deret
Volta adalah susunan unsur-unsur logam berdasarkan potensial elektroda
standarnya (E°). Semakin ke kiri, kedudukan suatu logam akan semakin negatif, semakin
reaktif (mudah melepas elektron) dan reduktor
kuat (mengalami oksidasi).
Li-K-Ba-Ca-Na-Mg-Al-Mn-Zn-Cr-Fe-Ni-Co-Sn-Pb-(H)-Sb-Bi-Cu-Hg-Ag-Pt-Au
2.
Rapat Arus
Pada proses ini jumlah
logam yang terdeposisi pada katoda atau yang lenyap dari anoda. Rapat arus yang
timbul dapat mempercepat terjadinya pengendapan namun hasilnya kasar, di
samping itu rapat arus yang tinggi dapat menyebabkan pelarutan kembali pada
lapisan yang terbentuk. Rapat arus yang rendah menyebabkan pelepasan ion lambat
sehingga membutuhkan waktu yang relatif lama.
3.
Konsentrasi Larutan Elektrolit
Pada larutan yang
konsentrasinya rendah, proses pelapisan berlangsung lama dan kemungkinan tidak
terjadi lapisan. Sebaliknya pada larutan yang konsentrasinya tinggi, akan
menghasilkan lapisan yang melekat kuat tetapi kemungkinan lapisan yang terjadi
kasar.
4.
Waktu
Semakin
lama waktu dialirkan listrik pada logam, maka logam tersebut semakin mudah teroksidasi dan
tereduksi.
BAB V
KESIMPULAN
Berdasarkan percobaan
yang telah dilakukan dapat disimpulkan bahwa:
1. Logam
Fe mengalami oksidasi sedangkan Cu mengalami reduksi.
2.
Semakin meningkatnya konsentrasi larutan elektrolit maka massa pelapisan pada logam akan Fe semakin besar.
3.
Selisih berat logam Cu yang diperoleh pada
proses elektroplating dengan konsentrasi 0,1
M 0,02 gram.
4.
Selisih berat logam Fe yang diperoleh
pada proses elektroplating dengan konsentrasi 0,1
M 0,071 gram.
5.
Selisih berat logam Fe yang diperoleh
pada proses elektroplating dengan konsentrasi
0,05 M 0,022 gram.
6.
Selisih berat logam Cu yang diperoleh
pada proses elektroplating dengan konsentrasi
0,05 M 0,02 gram.
DAFTAR PUSTAKA
Achmadi, Suminar. 2007. Kimia Dasar : Prinsip dan Aplikasi Modern. Terjemahan dari General Chemistry: Principle
and Modern Application oleh Petrucci. Erlangga, Jakarta.
Achmadi, Suminar. 2008. Kimia Untuk Pemula. Terjemahan dari
Chemistry for Beginner oleh David Golberg. Erlangga, Jakarta.
Darmaji. 2005. Kimia Fisika II. Universitas Jambi
Press, Jambi.
Prabowo. 2003. Kimia For Dummes. Terjemahan dari
Chemistry For Dummies oleh John Moore. Pakar Raya, Jakarta
Sukardjo. 2003. Dasar-dasar Kimia
Fisika. UGM Press, Yogyakarta.
No comments:
Post a Comment